因涉及“光刻机”误导性陈述，苏大维格(300331)正在被追责。10月12日晚间，苏大维格（300331）披露深交所关注函，公司在互动易平台对有关“光刻机”相关回复受到媒体和投资者广泛质疑，并引起股价大幅波动，涉嫌存在不真实、不准确、不完整情形及误导性陈述，市场影响恶劣，交易所将对苏大维格及相关违规当事人启动纪律处分程序。
此“光刻”非彼“光刻”的误导性陈述始于上市公司在互动易平台的系列表述。“公司光刻机以实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口”、“公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局”，苏大维格9月14日午间的上述表示，直接引燃市场情绪。
当日午间开盘后，苏大维格股价即获大幅拉升，并斩获20%涨停收于33.12元/股，当天成交额达到15.55亿元。
9月15日一早，深交所便向苏大维格下发关注函，要求公司补充披露所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途等问题，并进一步提示相关风险。
当天晚间，苏大维格披露了线上半年报业绩说明会纪要，其中对光刻设备问题有所回应。公告称，公司高端智能装备包括直写光刻、3D光刻、投影/扫描光刻、纳米压印光刻设备等，部分直写光刻设备已向国内外高校及科研院所、国内企业等销售。现阶段，公司光刻设备销售规模相对有限，部分应用领域离国际先进水平具有一定差距，需要持续的研发投入。
更多的业务细节则在问询函回复中才揭开。10月8日晚间，苏大维格详细回复了相关问题。
据介绍，光刻技术是现代半导体、显示面板、光电子等领域的产品制造过程中不可或缺的工艺流程之一。从曝光方式上，光刻机可以分为掩模光刻机（在运行过程中均需要使用掩模板），包括接触式/接近式光刻机，投影式光刻机等；以及无掩模光刻机，即直写光刻机，包括电子束光刻机、激光直写光刻机、激光直接成像设备等。半导体及平板显示制造普遍采用“直写光刻制作掩模+投影光刻批量复制”的工艺过程。
苏大维格坦言，一般所称的光刻机是有掩模光刻机中的投影式光刻机，与公司所生产的激光直写光刻机不属于同一技术路线。公司自2001年左右开始研发各类光刻设备，包括激光直写光刻机、纳米压印设备等，前述设备主要用于微纳光学产品和衍射光学器件的制造，公司所生产的光刻设备目前不涉及集成电路领域相关产品的生产。
此外，苏大维格开发生产的激光直写光刻设备目前主要是自用，公司对外销售的金额较小，2022年实现对外销售收入约770.93万元，2023年上半年对外销售收入约2177.27万元。
就公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造，苏大维格表示，公司光刻设备目前不涉及集成电路领域相关产品的生产，这部分市场被行业龙头公司主导和垄断。公司光刻设备主要为自用于各类微纳光学产品和衍射光学器件的制造，对外销售金额较小，外部客户采购主要用于相关领域的研发、试制和微纳光学材料等生产。公司激光直写光刻设备在最小线宽、线宽均匀度、网格精度、稳定性等关键技术参数与同行业龙头公司相比存在较大差距。
在监管问询下，苏大维格在回复函中还进行了致歉。公司证券部门在回复相关互动易问题时，直接使用了“光刻机”、“龙头芯片公司”等可能引起误解的表述，未能充分考虑到部分投资者可能对光刻机的技术路线、相关技术的具体应用领域等情况不了解，未详细说明公司光刻设备的具体类型，公司主要的应用领域，与行业龙头企业的差距，以及客户主要用途等信息；也未说明相关设备收入占公司收入比重较低，未充分提示相关风险。对此，公司及证券部门诚恳向投资者表示歉意，并将积极吸取经验教训，进一步完善相关制度和程序等。
此番问询函回复披露之际，苏大维格还公布收到证监会的立案通知。因苏大维格涉嫌信息披露违法违规，中国证监会决定对苏大维格立案调查。
苏大维格表示，立案调查期间，公司将积极配合中国证监会的调查工作，并严格按照监管要求履行信息披露义务。目前，公司各项生产经营活动正常开展。
二级市场上，苏大维格近期股价震荡下跌，现价24.82元/股，已跌回前述“光刻机”概念狂欢前水平。